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機(jī)器設(shè)備在運(yùn)行的過程中,會(huì)不可避免的產(chǎn)生不同程度的振動(dòng),不同的部分以及不同時(shí)間段不同狀態(tài)下產(chǎn)生的振動(dòng)形式也是有差別的。
光學(xué)平臺最主要的一個(gè)目標(biāo)是消除平臺上任意兩個(gè)以上部件之間的相對位移。大多數(shù)光學(xué)實(shí)驗(yàn)都對系統(tǒng)穩(wěn)定性有較高的要求。各種因素造成的振動(dòng)會(huì)導(dǎo)致儀器測量結(jié)果的不穩(wěn)定性和不準(zhǔn)確性,所以光學(xué)平臺顯得十分重要。
對于想要購買光學(xué)平臺的客戶來說,如何鑒別光學(xué)平臺質(zhì)量的優(yōu)劣是比較重要的,下面為大家簡要地介紹一下如何鑒別光學(xué)平臺的優(yōu)劣以及各項(xiàng)指標(biāo)的意義和檢測方法。
儀器設(shè)備的微振動(dòng)直接影響精密儀器設(shè)備的測量精度。隨著精密隔振要求的提升,需要不斷提高光學(xué)平臺的振動(dòng)隔離技術(shù)。